国内企业纷纷布局 技术上还有差距
目前我国半导体光刻胶生产和研发企业主要有五家，分别为苏州瑞红（晶瑞股份子公司）、北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳。
1、 晶瑞股份：子公司瑞红在光刻胶领域深耕多年，率先实现了i线光刻胶的量产，可以实现0．35μm的分辨率。承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，目前i线光刻胶量产，KrF光刻胶处于研发过程。公司未来重点发展248nm，将着力发展相关业务。
2、 北京科华：6寸的G线、I线市场份额较高；8寸、12寸里面I－line、KrF都有突破，目前份额较小；ArF干法光刻胶已经处于研发及客户认证阶段。
3、 南大光电：于2017年开始研发“193nm光刻胶项目”，并承担“ArF光刻胶产品的开发和产业化”02专项项目。公司已在宁波经济开发区建设25吨KrF光刻胶生产线，预计三年达产销售。
4、 上海新阳：公司在半导体传统封装领域已经成为国内市场的主流供应商。光刻胶领域，公司拥有193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。
5、 容大感光：公司1．8亿收购高仕电研，标的生产的PCB油墨产品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻胶，LED用正性光刻胶及life－off光刻胶，I／G线IC用光刻胶等产品处于国内领先地位。但公司原规划于2018年年底建成1000吨的光刻胶生产线，但直至2019年底仍未实现。
虽然目前光刻胶的国产化正在加速，但半导体和 LCD 高端光刻胶技术与国外有较大差距。在自主研发，原材料依赖，厂商不易切入供应链和稳定商用等方面还是有很大的阻碍。但随着电子信息产业向中国转移和配套产业链的完善，未来进口替代是趋势所向，其中大部分中低端产品已实现进口替代，部分优秀企业已在高端产品进口替代上取得了重大突破，进口替代趋势愈加明显，国产替代或即将实现。
参考资料来源：
1、秦盘：《国产替代再出手，光刻胶投资迎来绝佳窗口期，概念股一览（收藏）》
2、雪球：《国内替代势在必行，光刻胶概念股一览》
3、新浪财经：《巨·研究 ｜ 国内半导体材料领域加速追赶者——光刻胶》
4、狄琼霏：《光刻胶领域龙头》
5、未来智库：《半导体材料行业专题报告：光刻胶，高精度光刻关键材料》
6、与非网：《国产光刻机奥企业全力推进研发进度，南大光电193nm产品已进入测试阶段》
7、冷静三分钟：《什么是光刻胶？现状如何？》