光刻胶按应用领域分类，大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶（感光油墨）与半导体光刻胶等。按照下游应用来看，目前LCD光刻胶占比26．6％，刻胶占比24．5％，半导体光刻胶占比24．1％，PCB光其他类光刻胶占比24．8％。
虽然国产替代进度最快的PCB光刻胶国产化率已达到50％，但技术门槛更高的 LCD 光刻胶国产化率在10％左右，进口替代空间巨大。
光刻胶呈现寡头垄断的局面
光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此在全球范围其行业都呈现寡头垄断的局面。
从全球市场份额来看，主要由日本、美国、韩国企业所把控。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87％的份额，行业集中度极高。其中，日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率合计达到72％。
光刻技术随着IC集成度的提升而不断发展。为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率，世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别，光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV（＜13．5nm）线水平。KrF和ArF光刻胶被日本、美国企业垄断。日本在这一领域的控制力极大增强了日本整体的半导体实力。
目前我国半导体领域的g线、i线光刻胶基本可以满足自给。而更为高端的KrF、ArF光刻胶，我国则几乎全部依赖进口，国产化率存在极大的提升空间。
目前，芯片制造商使用的量产的最高端光刻胶为曝光波长193nm的ArF光刻胶。仅有海外企业能够达到ArF及以上的技术水平。
在ArF光刻胶方面，JSR、信越化学、东京应化、住友化学、富士胶片、陶氏化学分别占据24％、23％、20％、15％、8％、4％的市场份额。
在KrF光刻胶方面，东京应化、信越化学、JSR、陶氏化学、韩国东进、富士胶片分别占据35％、22％、18％、11％、6％、5％的市场份额。
在EUV光刻胶方面，具备专利布局的前十大企业中，日本公司占有七席，并且富士胶片、信越化学、住友化学排名前三位，其专利申请数量大幅领先其他公司，体现日本在EUV光刻胶领域具备十分明显的技术优势。
LCD光刻胶需求快速增长
全球面板市场稳步上升，产能向大陆转移，催生 LCD 光刻胶需求增长。
据 IHS 2019年 6 月发布的数据，2019 年全球 TFT－LCD 和 OLED 整体平板显示容量约为 3．34 亿平方米，2023 年有望上升至 3．75 亿平方米，其中，TFT－LCD 面板市场容量约为 3．09 亿平方米，未来需求将稳步增长。
全球 LCD 面板产业经历了“美国研发—日本发展—韩国超越—台湾崛起—大陆发力”的过程，美国最早研发出 LCD 技术后，80 年代后期由日本厂商将 LCD 技术产业化，全球面板产业几乎被日本企业垄断。
90 年代后，韩国和中国台湾面板厂快速崛起，开始长时间主导市场，大陆面板自 2009 年开始发力，以京东方为首的大陆面板厂商产能持续翻倍增长。据 IHS 数据，2018 年大陆 LCD 产能占有率已达到 39％，预计 2023 年大陆产能将占全球总产能的 55％。
政策及国产化风向带动国产厂商发展
半导体材料和半导体设备作为半导体产业链的最上游，对于产业的支撑意义明显，具有同等重要的战略意义。2020年至2022年是中国大陆晶圆厂投产高峰期，以长江存储，长鑫存储等新兴晶圆厂和以中芯国际，华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期，未来3年将迎来密集投产。根据国内晶圆厂的建设速度和规划，预计2022年国内半导体光刻胶市场是2019年的两倍，半导体光刻胶市场将迎来高速发展期。
目前国内在 LCD光刻胶领域有布局的国产厂商主要有飞凯材料、永太科技、苏州瑞红（晶瑞股份 100％控股）和北京科华微电子（南大光电持股 31．39％）。
飞凯材料已经在高端的湿膜光刻胶领域通过下游厂商验证，CF光刻胶已经通过华星光电验证。
晶瑞股份（苏州瑞红）承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目并通过验收，在国内实现了i线（365nm）光刻胶量产，并在中芯国际、扬杰科技、士兰微等知名半导体厂通过了单项测试和分片测试，取得了客户的产品认证。
同时，子公司苏州瑞红研发的 RZJ－325 系列光刻胶、高粘附性光刻胶RFJ－210G、TFT－Array 光刻胶部分产品、厚膜光刻胶 RZJ－T3520 等光刻胶产品也取得重大进展将逐步推向市场。
南大光电2019年半年报中披露公司正在自主创新和产业化的193nm光刻胶项目，已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项，先后共获得中央财政补贴15，101．65万元，地方配套5，000万元。
为促进我国光刻胶产业的发展，国家02重大专项给予了大力支持。今年5月，02重大专项实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。
据悉，经过项目组全体成员的努力攻关，完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明专利15项（包括国际专利5项），截止到目前，共获得授权专利10项（包括国际专利授权3项）；培养了博士研究生9名，硕士研究生1名。
根据测算，伴随LCD产业中心的转移，叠加材料国产化的大趋势，我国LCD光刻胶市场规模及国产化率有望逐步提升，预计2019－2023年，我国LCD光刻胶市场规模将会从40亿元提升到69亿元，4年 CARG14．6％；LCD光刻胶材料的国产化率有望从5％快速提升至40％，国产材料龙头有望充分受益。在LCD光刻胶领域，随着国内技术的不断突破，在产业驱动和政策支持下，预计龙头企业将优先抢占国产化的市场空间，有望享受全球产业转移下丰厚的业绩回报。
